—种曝光及显影方法,该方法包括以下步骤: 步骤1:对基板的主体进行曝光; 步骤2:由基板输送机构将该基板输送至显影装置;用于曝光显影的设备,其包括主体曝光机10、边缘曝光装20及显影装置30。 步骤3:由边缘曝光装置对基板的边缘进行曝光; 步骤4:由该显影装置对曝光后的基板进行显影。曝光及显影设备,该基板导正装置为一对设置于该基板输送机构的两侧的弧形板,该对弧形板的距离渐缩,在靠近该边缘曝光装置的一端,该对弧形板的距离等于该基板的短边长度。
贴菲林膜:把曝光显的菲林膜面贴在丝网上,人膜的背面用橡皮板或其它直板,轻轻刮贴,使膜与网接触牢固,马上放在烘箱内,在温度55±2度的条件下烘烤8-12分钟,干燥后,把网框固定在印版台上进行试印。去膜方法:在曝光、显影过程中,发现版不合格时,马上用温水可把胶膜刷掉重新制作。如果版已干燥或生产一段时间后再去膜时,可用工业次氯酸N与水各一份,浸泡10-20分钟。保光:经过充分染色的牌子,晾干后,用刷子或喷枪涂上保光漆(一般用眼睛牌烤漆或免烘烤保光漆)。或有5%氢Q化钠水溶液加温处理网版,可除去胶膜。调研剖析--标志不仅仅是一个图形或文字的组合,它是根据企业的构成结构、行业类别、运营理念,并充沛考虑标志触摸的目标和使用环境,为企业拟定的标准视觉符号。在规划之前,首要要对企业做全l面深入的了解,包含运营战略、市场剖析、以及企业l高领人员的根本志愿,这些都是标志规划开发的重要根据。对竞争对手的了解也是重要的步骤,标志的识别性,就是树立在对竞争环境的充沛把握上。因此,我们首要会要求客户填写一份标志规划调查问卷。要素发掘--要素发掘是为规划开发作业做进一步的预备。曝光显影整装线工艺流程:技术优势:1、解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题。我们会根据对调查结果的剖析,提炼出标志的结构类型、颜色取向,列出标志所要体现的精力和特色,发掘相关的图形元素,找出标志的规划方向,使规划作业有的放矢,而不是对文字图形的无目的组合。
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